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薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。而对于空间红外辐射，普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外，但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。本公司专业从事真空镀膜设备的研发与生产拥有经验丰富的技术团队及优质的售后服务队伍为您解决设备在使用过程中遇到的任何问题。 具体因素也在下面给出。

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真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法

制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。2、极限真空度高，可达7×10-5Pa，可保证更高的镀膜纯净度，提高镀膜质量。真空状态需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要控制好还是不成问题的。

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真空镀膜机检漏

要承认漏气究竟的虚漏仍是实漏，因为工件资料加热后都会在不同程度上发生气体，有也许误以为是从外部流进的气体，这即是虚漏，要扫除这种状况。

第二，测验好真空室的气体密封功能，确保气密功能符合要求。

第三，查看漏孔的巨细，形状、方位，漏气的速度，制备出可处理方案并施行。

第四，断定检查仪器的1小可检漏率和检漏灵敏性，以1大规模的检查出漏气状况，防止一些漏孔被疏忽，进步检漏的准确性。

第五，掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻，把时刻掌握好，确保检漏仪器作业到位，时刻少了，检漏作用必定差，时刻长了，糟蹋检漏气体和人工电费。

第六，还要防止漏孔阻塞，有时因为操作失误，检漏过程中，一些尘埃或液体等把漏孔阻塞了，以为在该方位没有漏孔，但当这些阻塞物因为内外压强区别进步或别的缘由使漏孔不堵了，那漏气仍是存在的。